ADTechnology（ADT）于23日宣布，将与德国弗劳恩霍夫集成电路研究所展开战略性技术合作，共同开发基于4纳米级工艺的系统级芯片（SoC）及小芯片解决方案，以应对欧洲市场对定制化半导体日益增长的需求。

　　双方计划依托先进的4纳米级工艺设计协作，开发同时满足高性能与低功耗特性的定制化半导体解决方案。通过结合弗劳恩霍夫IIS在系统与算法设计方面的专长，以及ADT在专用集成电路设计及工艺优化方面的能力，双方旨在将研究成果应用于产业实践，并进一步提升高性能半导体设计水平。

　　ADTechnology基于三星电子代工工艺的专用集成电路设计服务能力，以及其自主研发的设计优化平台“Capella”，为客户提供针对工艺特性优化的定制化库。借此，公司能够在功耗、性能与面积三大维度上实现设计效率最大化，以应对日益复杂的人工智能及高性能半导体设计环境。

　　此次合作被视为加强欧洲AI基础设施及高性能半导体市场中定制化芯片设计能力的重要战略布局。尤其在人工智能、物联网、汽车等高附加值产业领域，有望显著提升产品差异化、功耗优化及开发周期缩短等方面的竞争力。

　　ADTechnology总裁朴俊圭表示：“弗劳恩霍夫IIS的研究实力与我们在专用集成电路及小芯片设计方面的专业经验相结合，将为欧洲客户提供更先进的半导体解决方案。我们将持续拓展全球半导体生态系统内的战略伙伴关系，并不断加强技术竞争力。”

　　弗劳恩霍夫IIS负责人阿尔伯特·霍伊贝格尔指出：“这是一个通过国际合作加速技术创新的重要范例。双方专业能力的融合，将助力研究成果转化为实际的产业价值。”