中微董事长尹志尧:目标五年内拿下六成高端半导体设备市场

   日期:2025-06-23     来源:本站    作者:admin    浏览:73    
核心提示:  中微公司召开业绩说明会 薄膜设备业务成新增长点  5月27日,国内半导体设备龙头企业中微公司在上海临港召开2024年度及2025

  中微公司召开业绩说明会 薄膜设备业务成新增长点

  5月27日,国内半导体设备龙头企业中微公司在上海临港召开2024年度及2025年第一季度业绩说明会。公司董事长尹志尧在会上透露,薄膜沉积设备将成为公司未来三到五年内的重要增长点。

  

  图片来源:中微公司供图

  作为国内刻蚀设备领域的领军企业,中微公司正在积极拓展薄膜设备业务。2024年,公司LPCVD设备实现首台销售,全年销售额达1.56亿元。目前,公司已累计出货150个LPCVD反应台,同时ALD设备和EPI设备也取得了重要进展。

  尹志尧强调,中微公司始终坚持自主创新路线。在开发LPCVD设备时,公司通过分析国际领先厂商的产品特点,研发出具有自主知识产权的差异化设备。他表示,薄膜设备种类繁多,公司将逐步覆盖PECVD、ALD、PVD等主流产品线。

  值得注意的是,中微公司的研发策略正在发生变化。过去20年间,公司70%以上的研发投入集中在刻蚀设备领域。近年来,随着薄膜设备业务的拓展,相关研发投入占比已显著提升。尹志尧预计,未来三到五年内,薄膜设备收入将实现快速增长。

  展望未来,中微公司计划用五到十年时间,将业务范围拓展至刻蚀、薄膜、量检测及部分湿法设备领域,目标是覆盖60%以上的半导体高端设备市场,最终发展成为平台型集团公司。

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